Os filmes finos são usados em microeletrônica como condutores,
resistores, capacitores e em revestimentos óticos em lentes.
Esses filmes podem ser produzidos pela deposição de vapor
químico, utilizando tetrabrometo de titânio que é evaporado e
misturado com hidrogênio gasoso. A mistura é passada sobre
uma superfície aquecida a aproximadamente 1300ºC. O haleto
metálico sofre reação com hidrogênio para formar um
revestimento de titânio metálico.
A massa máxima de titânio metálico que poderá ser produzida
quando 8 mol de gás hidrogênio reagem com o tetrabrometo de
titânio, considerando um rendimento de 100% no processo, é:
Dados: Massa molar (g.mol–1): H = 1Ti = 48 Br=80
